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        市科創(chuàng)委關于2021年集成電路專項資助計劃項目申請指南

        一、申請內容

        (一)對集成電路設計企業(yè)流片支持

        1.多項目晶圓直接流片資助;

        2.首次完成全掩膜工程產品流片資助。

        (二)對集成電路設計企業(yè)購買IP(硅知識產權)支持

        對于企業(yè)購買IP開展高端芯片研發(fā),給予IP購買費用資助。

        (三)對集成電路EDA設計工具研發(fā)支持

        對于從事集成電路EDA設計工具研發(fā)的企業(yè),給予EDA研發(fā)費用資助。

        二、設定依據(jù)

        (一)《深圳市人民政府關于印發(fā)進一步推動集成電路產業(yè)發(fā)展行動計劃(2019-2023年)的通知》(深府〔2019〕28號);

        (二)《深圳市人民政府辦公廳關于印發(fā)加快集成電路產業(yè)發(fā)展若干措施的通知》(深府辦規(guī)〔2019〕4號)。

        (三)《深圳市科技計劃項目管理辦法》(深科技創(chuàng)新規(guī)〔2019〕1號;

        (四)《深圳市科技研發(fā)資金管理辦法》(深科技創(chuàng)新規(guī)〔2019〕2號);

        (五)《深圳市企業(yè)研究開發(fā)項目與高新技術企業(yè)培育項目資助管理辦法》(深科技創(chuàng)新規(guī)〔2019〕5號)。

        三、支持強度與方式

        支持強度:有數(shù)量限制,受科技研發(fā)資金年度總額控制。按照審計結果確定資助額度本批次資助資金納入2021年市級財政預算安排。

        (一)對集成電路設計企業(yè)流片支持

        1.對于使用多項目晶圓進行研發(fā)的企業(yè),給予2019年多項目晶圓直接流片費用最高70%、年度總額不超過300萬元的資助;

        2.對于首次完成全掩膜工程產品流片的企業(yè),給予2019年首次完成全掩膜工程產品流片費用最高50%、年度總額不超過500萬元的資助。

        (二)對集成電路設計企業(yè)購買IP支持

        對于購買IP開展高端芯片研發(fā)的企業(yè),給予2019年IP購買實際支付費用最高20%的資助,單個企業(yè)每年總額不超過500萬元。

        三)對集成電路EDA設計工具研發(fā)支持

        對于從事集成電路EDA設計工具研發(fā)的企業(yè),給予2019年EDA研發(fā)費用實際支出最高30%的研發(fā)資助,總額不超過3000萬元。

        支持方式:事后資助。

        四、申請條件

        (一)基本條件:

        1.申請單位應當是在深圳市(含深汕特別合作區(qū),下同)依法注冊,具備法人資格的企業(yè);

        2.申請單位應在深圳具備研發(fā)的場地、設施、人員等;

        3.申請單位未列入深圳市科研誠信異常名錄;

        4.申請單位無逾期未辦理驗收的項目;

        5.申請單位同一項目不得向市有關部門進行多頭申請和重復申請;

        (二)專項條件:

        1.對集成電路設計企業(yè)流片支持

        1)申請單位應為集成電路設計企業(yè);

        2)申請單位應為流片產品的知識產權所有方;

        3)未申請市發(fā)展改革委集成電路設計流片扶持計劃。

        2.對集成電路設計企業(yè)購買IP支持

        1)申請單位應為集成電路設計企業(yè);

        2)申請單位應為IP授權協(xié)議中的知識產權最終被授予方,且不再轉售予第三方;

        3)IP購買實際支付費用應為IP授權費用(不含版稅費用)。

        3.對集成電路EDA設計工具研發(fā)支持

        1)申請單位應為EDA設計工具研發(fā)企業(yè);

        2)研究開發(fā)活動應符合研發(fā)費用加計扣除政策范疇,且2019年度已向稅務部門辦理加計扣除申報

        、受理時間

        網絡填報受理時間:2020年810-2020年99日(截止24:00)。

        (二)書面材料提交時間:項目入庫后提交紙質書面材料具體提交時間和方式另行通知。

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